반도체 및 IC 제조

웨이퍼 팹, 전력 및 화합물 반도체, 패키징과 테스트, MEMS: 클린룸, 초순수, 가스 모니터링이 있는 특수가스, 저감 설비, 결코 멈추지 않는 유틸리티.

FacilityOS가 돕는 방식

사용되는 플랫폼 모듈

세부 분야

시스템 및 장비

필수: 해당 유형의 모든 사이트에 있습니다. 일반: 대부분의 사이트에 있습니다. 선택: 사이트에 따라 다릅니다.

칠러 플랜트 및 PCW

플랜트는 MAU와 드라이 코일을 냉각하고, PCW는 설비, 펌프, RF 발생기를 냉각합니다.

장비등급주요 감시 포인트참고
대형 원심 칠러필수CHW 공급 온도 · CHW 환수 온도 · 부하 · 소비 전력 · 효율(kW/ton) · 고장BACnet/IP 기반 1,000 톤급 원심 칠러(Trane, York, Carrier, Daikin), 통상 N+1.
냉각탑 셀필수냉각탑 출구수 온도 · 냉각탑 입구수 온도 · 팬 속도 · 수조 레벨 · 수질 전도도 · 팬 진동
펌프필수운전 중 · 속도 · 차압냉수 및 냉각수 펌프. 드라이브는 대개 Modbus TCP.
공정 냉각수 루프필수공급 온도 · 환수 온도 · 공급 압력 · 공급-환수 차압 · 루프 유량 · 루프 전도도 · 누수 감지됨
열회수 칠러 / 히트펌프선택온수 공급 온도 · 냉수 공급 온도(회수 측) · 소비 전력 · 종합 COP열회수로 보일러 가스를 대체 — 탈탄소화의 핵심 수단 중 하나입니다.
온수 보일러일반온수 공급 온도 · 연소율 · 고장MAU 예열 및 재열용 온수.
판형 열교환기일반2차 공급 온도 · 접근 온도차 · 1차 압력 강하
가압 / 팽창 유닛일반시스템 압력 · 저압 경보 · 금일 보충수량
냉각탑 수처리일반전도도 · 약품 드럼 부족
사이드스트림 필터선택필터 차압

클린룸 공기

외기 도입, 순환 공조, FFU가 청정도, 압력 캐스케이드, 온도/습도를 유지합니다.

장비등급주요 감시 포인트참고
외기 도입 유닛(MAU)필수급기 온도 · 급기 이슬점 · 외기 풍량 · 팬 속도 · 최종 필터 압력 강하 · 고장이슬점 제어가 클린룸 습도를 결정합니다.
순환 공조기필수급기 온도 · 환기 온도 · 순환 풍량 · 드라이 코일 밸브 · 필터 압력 강하
팬필터유닛(FFU) 뱅크필수가동 중 FFU · 고장 FFU · 평균 속도 · 뱅크 전력 · FFU 네트워크 고장피더 또는 제어 구간별로 그룹화합니다. 고장이 몰려 있으면 대개 회로 문제입니다.
클린룸 존필수인접 구역 대비 압력 · 실 온도 · 상대 습도 · 하강 기류 속도 · 목표 등급(ISO 14644-1) · 문 열림 유지일반적인 캐스케이드는 0.02–0.06 inWC(5–15 Pa).
입자 계수기필수입자 ≥ 0.1 µm · 입자 ≥ 0.3 µm · 입자 ≥ 0.5 µm · 입자 ≥ 5.0 µm · 측정 등급(ISO 환산) · 목표 ISO 등급 초과ISO 14644-1 한도는 m³ 기준이며, ft³당 값은 35.3147로 나눕니다.
클린룸 FMCS 요약일반최악 존 입자 ≥ 0.5 µm · 고장 FFU(전체 뱅크) · 사양 이탈 존
가습기일반제어 습도 · 실린더 / 노즐 점검
패스스루 / 에어락 인터록일반두 문 모두 열림 · UV 램프 사용 시간
공기 중 분자 오염(AMC) 모니터일반산류 · 염기류(NH₃)
팹 미세진동 모니터선택VC 기준 충족 · 설비 사양 초과

공정 유틸리티: CDA, 진공, 벌크 및 특수가스

설비의 생명선입니다. 공급을 잃으면 멈추고, 누출은 인명 안전 문제입니다.

장비등급주요 감시 포인트참고
청정 건조공기 압축기필수토출 압력 · 출력 · 부하 · 소비 전력 · 서지 감지됨 · 고장
흡착식 에어 드라이어필수압력 이슬점 · 압력 강하 · 재생 온도 · 고장일반적인 압력 이슬점 −94°F(−70°C).
CDA 헤더필수헤더 압력 · 헤더 이슬점 · 수요
벌크 가스 공급필수탱크 레벨 · 공급 압력 · 기화기 출구 온도 · 유량 · 불순물 · 예비 공급 사용 중N2, O2, Ar, H2, CO2. 탱크 원격 계측은 보통 가스 공급사 소관입니다.
현장 질소 발생기선택제품 O2 함량 · 출력 · 출구 압력 · 순도 이탈(LIN 백업 중)
특수가스 캐비닛필수실린더 압력 · 공급 압력 · 실린더 중량(저울) · 캐비닛 배기 · 과류 트립 · 자동 차단 밸브 닫힘 · 캐비닛 배기 저하독성, 가연성, 부식성 가스는 배기되는 캐비닛에 보관합니다(IFC HPM 규정).
밸브 매니폴드 박스필수분배 압력 · 열림 고착 · 인클로저 배기 · 인클로저 내 가스 감지 · 자동 차단 밸브 닫힘
특수가스 사용량 계량기일반현재 사용량 · 금일 사용량(scf) · 잔여 공급 가능 일수
공정 진공 펌프필수흡입 압력 · 모터 전력 · N2 퍼지 유량 · 펌프 본체 온도 · 서비스 경고Ebara, Edwards, Kashiyama 건식 펌프, 통상 Modbus 또는 Profinet.
하우스 진공 시스템일반진공 · 가동 중 펌프
벌크 화학물질 공급 시스템필수공급 탱크 레벨 · 공급 압력 · 공급 유량 · 드립 팬 누출 · 이중 격납 누출 · 자동 차단 밸브 닫힘산, 염기, 용제를 이중 격납 배관으로 공급.
CMP 슬러리 공급전공정 웨이퍼 팹(로직 / 메모리) · 전력 및 화합물 반도체(SiC / GaN) · 패키징 및 테스트(OSAT / 첨단 패키징)필수데이탱크 레벨 · 루프 공급 압력 · 루프 유량 · 대입자 ≥ 1 µm(mL당) · 드립 팬 누출
화학물질 희석 유닛일반출구 농도 · 누출 · 농도 경보
질소 정제기일반출구 O₂
탱크 야드 레벨일반레벨 · 고고위(High-high) 레벨 · 방유제 누출
극저온 기화기일반출구 가스 온도 · 출구 저온

UPW, 재이용 및 폐수

UPW 수질은 수율에 직접 영향을 주며, 폐수는 방류 허가를 충족해야 합니다.

장비등급주요 감시 포인트참고
역삼투(RO) 유닛필수투과수 전도도 · 투과수 유량 · 회수율 · 멤브레인 차압
전기탈이온(EDI) 유닛필수생산수 비저항 · 생산수 유량
UV TOC 저감기필수UV 강도 · 출구 TOC
UPW 폴리싱 루프필수공급 비저항 · TOC · 용존산소 · 용존 실리카 · 입자 ≥ 0.05 µm(mL당) · 공급 유량 · 공급 압력일반 목표: 18.2 MΩ·cm, TOC < 1 ppb(최첨단 노드는 더 엄격).
물 재생 시스템일반재이용 유량 · 재이용률 · 재이용수 전도도 · 재이용수 TOC · 배수로 전환됨(규격 외)
pH 중화 시스템필수방류수 pH · 유입수 pH · 가성 주입 · 산 주입 · 유량
불소 폐수 처리전공정 웨이퍼 팹(로직 / 메모리) · 전력 및 화합물 반도체(SiC / GaN) · MEMS / 센서필수방류수 불소 · 반응조 pH · 침전조 탁도
CMP 슬러리 폐수전공정 웨이퍼 팹(로직 / 메모리) · 패키징 및 테스트(OSAT / 첨단 패키징)일반방류수 탁도 · pH · UF 막간 압력(TMP)
최종 방류수 모니터필수방류 유량 · 방류 pH · COD · 불소 · 방류 온도
펌프장일반집수정 레벨 · 가동 중 펌프 · 고수위
급수 부스터일반토출 압력 · 유량
물탱크 / 저수조 수위일반레벨 · 저수위 · 월류 레벨
비저항 분석기일반비저항

배기 및 저감

설비 배기는 절대 실패해서는 안 되며, 저감 설비가 대기 배출 허가를 지켜 줍니다.

장비등급주요 감시 포인트참고
공정 배기 시스템필수배기 메인 정압 · 배기 풍량 · 가동 중 팬 · 배기 정압 저하일반, 열, 용제, 산 배기를 각각 감시합니다. N+1 팬.
산 배기 스크러버필수순환액 pH · 순환 유량 · 충전층 압력 강하 · 입구 덕트 정압 · 순환 유량 저하
알칼리 배기 스크러버일반순환액 pH · 순환 유량 · 충전층 압력 강하
VOC 농축기필수입구 VOC · 출구 VOC · 제거 효율 · 탈착 온도
축열식 열산화기일반연소실 온도 · 입구 용제(LEL) · 바이패스 댐퍼 열림
사용점(POU) 저감 장치전공정 웨이퍼 팹(로직 / 메모리) · 전력 및 화합물 반도체(SiC / GaN) · MEMS / 센서필수연소 / 반응 온도 · 흡입 압력 · 바이패스됨(미처리) · 서비스 경고PFC, 실란, 아르신 등을 위한 사용점 처리.

전력 및 서브미터링

한 번의 전압 sag로 베이 전체의 설비가 다운될 수 있습니다.

장비등급주요 감시 포인트참고
중전압 스위치기어필수모선 전압 · 인입 전류 · 유효 전력 · 차단기 투입 · 보호 트립 · 계전기 이상감시 전용 — 차단기를 절대 조작하지 않습니다.
저전압 스위치기어필수모선 전압 · 부하 전류 · 유효 전력 · 역률 · 전류 THD · 차단기 트립
전력용 변압기필수상부 유온 · 권선 온도 · 부하 · 가스 / 급격한 압력 경보 · 과온 경보
UPS필수부하 · 배터리 지속 시간 · 바이패스 상태SNMP v3(UPS-MIB).
UPS 배터리 스트링 모니터필수스트링 전압 · 최저 셀 전압 · 최고 셀 전압 · 최고 셀 내부 저항 · 최고 셀 온도 · 충전 상태셀(jar)별 저항 추세(IEEE 1188의 유지보수 방법 중 하나).
발전기일반운전 중 · 출력 전력 · 연료 탱크 레벨 · 기동용 배터리 전압 · AUTO 아님
전력 품질 계측기일반전압 THD · 전류 THD · 금일 전압 sag · Sag / 순단 이벤트전압 sag는 트립의 흔한 숨은 원인입니다.
사이트 유틸리티 계량기필수사이트 전력 · 사이트 전력(MW) · 금일 에너지 · 역률
구역 에너지 계량기필수구역 전력 · 금일 에너지 · 15분 수요 · 역률에너지 분석과 비용 배분을 위한 작업장 또는 시스템별 서브미터링.
천연가스 계량기일반천연가스 유량 · 입열량(1,037 BTU/scf) · 금일 가스(scf)천연가스를 scfh로 계량하고 발열량으로 BTU/h로 환산.
정적 절체 스위치(STS)필수대체 전원 사용 중 · 전원 비동기
배터리 셀 모니터링일반최고 셀 저항 · 셀 경보
−48 V DC 전원 플랜트일반DC 모선 전압 · AC 입력 상실
절연 감시 장치(IT 계통)일반절연 저항 · 절연 경보
버스웨이 / 케이블 온도(DTS)선택최고 온도 지점
능동형 고조파 필터(APF)일반전류 THD(후) · 유닛 부하 · 고장 모듈 · 팬 고장
수동(동조형) 고조파 필터일반전류 THD(후) · 커패시터 전류, 측정 / 정격 · 공진 경보
자동 커패시터 뱅크일반역률 · 커패시터 전류, 측정 / 정격 · 공진 경보 · 금일 개폐 횟수
동적 전압 복원기(DVR)선택금일 보상된 sag · 바이패스 상태
전력 조정기일반출력 전압 · 변압기 온도
EMI 필터선택누설 전류
변압기 DGA 모니터일반수소 · 아세틸렌
부싱 모니터선택역률(tan δ) · 정전용량 변화
권선 온도 모니터일반권선 핫스팟
부하시 탭 절환 제어(OLTC)선택탭 위치 · 탭 고장 · 금일 동작 횟수
부분 방전 모니터일반방전량
스위치기어 무선 온도일반최고 온도 지점 · 위상차
아크 플래시 보호 계전기일반아크 트립 · 보호 준비 안 됨
중성점 접지 저항기 모니터선택NGR 저항 · 저항기 개방 · 지락
서지 어레스터 모니터선택총 누설 · 저항분 전류
플라이휠 / 회전형 UPS선택플라이휠 속도 · 방전 중 · 베어링 온도
설비 PDU / EMO일반EMO 눌림

생명 안전: 가스 모니터링, 화재, 누수 모니터링 전용

TLV 기준으로 설정한 2단계 경보. 모두 감시 전용입니다.

장비등급주요 감시 포인트참고
가스 모니터링 시스템필수활성 경보 · 활성 고장 · 자동 차단 작동 · 대피 경보차단 인터록은 GMS가 수행하며, 플랫폼은 감시만 합니다.
실란 감지기필수실란(SiH4) · 경보 1(낮음) · 경보 2(높음)TLV 5 ppm.
암모니아 감지기필수암모니아 농도 · 암모니아 경보TLV 25 ppm.
염소 감지기필수염소(Cl2) · 경보 1(낮음) · 경보 2(높음)TLV 0.5 ppm.
HF 감지기필수불화수소(HF) · 경보 1(낮음) · 경보 2(높음)TLV-C 2 ppm.
아르신 감지기전공정 웨이퍼 팹(로직 / 메모리) · 전력 및 화합물 반도체(SiC / GaN)일반아르신(AsH3) · 경보 1(낮음) · 경보 2(높음)TLV 5 ppb; 이온 주입 및 III-V 에피택시.
포스핀 감지기전공정 웨이퍼 팹(로직 / 메모리) · 전력 및 화합물 반도체(SiC / GaN)일반포스핀(PH3) · 경보 1(낮음) · 경보 2(높음)TLV 50 ppb.
NF3 감지기일반삼불화질소(NF3) · 경보 1(낮음) · 경보 2(높음)챔버 세정 가스; TLV 10 ppm.
수소 감지기전공정 웨이퍼 팹(로직 / 메모리) · 전력 및 화합물 반도체(SiC / GaN)필수수소(% LEL) · 경보 1(낮음) · 경보 2(높음)
산소 결핍 모니터필수산소 · 경보 1(O2 19.5 % 미만) · 경보 2(O2 18 % 미만)질소 및 불활성 가스 구역: 19.5 %와 18 % 단계.
화재 경보 존 및 연동필수화재 경보 · 감시(Supervisory) · 고장(Trouble) · 연동: 에어핸들러 정지 · 연동: 방화/방연 댐퍼 닫힘 · 연동: 배연 설비 가동 중 · 연동: 엘리베이터 소환(복귀) 완료연동 확인은 소방 시스템이 해야 할 동작을 수행했는지 검증합니다.
화재 수신반필수화재 경보 · 감시 신호 · 고장 신호감시 전용 (NFPA 72).
흡인식 연기 감지기일반연기 감광률 (%/ft) · 경보 · 조치 · 화재 1 · 기류 이상
누수 감지 케이블필수누수 감지됨 · 누수 지점까지 거리 · 누수 구역 · 케이블 단선 또는 오염
제연 팬일반운전 중 · 댐퍼 동작 미확인배연 또는 계단실 급기가압 팬; 감시 전용.
방화 / 방연 댐퍼필수닫힘 · 위치 이상 · 시험 후 경과 일수
청정소화약제 소화 패널필수방출됨 · 실린더 압력 저하

보안 및 영상 모니터링 전용

카메라 및 출입문 상태와 영상 연동: 카메라는 구역, 장치, 경보 규칙에 연결되며, 경보 발생 시 게이트웨이가 ONVIF 스냅샷을 촬영해 경보에 첨부하고 NVR/VMS 라이브 뷰 링크를 제공합니다. Core는 카메라에 직접 접속하지 않습니다.

장비등급주요 감시 포인트참고
비디오 카메라일반온라인 · 녹화 중 · 움직임 감지 · 영상 분석 경보 · 탬퍼 (가려짐 또는 위치 이동)VMS(Milestone, Genetec 등)를 통한 상태 확인; 경보 발생 시 게이트웨이가 ONVIF 스냅샷을 촬영해 경보에 첨부합니다 — Core는 카메라에 직접 접속하지 않습니다.
출입 통제 도어일반문 열림 · 문 열림 유지 · 문 강제 개방출입문 이벤트로 카메라 연동을 구동할 수 있습니다.
외곽 침입 감지일반경계 경보
네트워크 스위치(SNMP)일반포트 다운 · PSU 고장

인명 안전 장비(화재 경보, 가스 감지, 비상 전원 절체)와 보호 장치는 모니터링만 합니다. FacilityOS는 이러한 장비에 명령을 절대 보내지 않습니다.

표준 및 규정 준수

표준 및 규정 준수참고
ISO 14644-1공기 중 입자 농도에 따른 클린룸 등급 분류; 반도체 팹은 일반적으로 전공정에서 ISO 3–5, 패키징에서 ISO 6–7로 운영합니다.
ISO 14644-2클린룸이 등급을 유지하고 있음을 입증하는 증거를 제공하기 위한 모니터링.
SEMI S2반도체 제조 장비에 대한 EHS 가이드라인.
SEMI F63반도체 공정에 사용되는 초순수 가이드 (대표 값은 18.2 MΩ·cm, TOC < 1 ppb 수준).
NFPA 318반도체 제조 시설 보호에 관한 표준.
International Fire Code (HPM)유해 생산 물질(HPM) 시설에 대한 IFC 규정: 가스 캐비닛, 배기, 가스 감지 및 비상 전원.
NFPA 55압축가스 및 극저온 유체 코드 (벌크 탱크, 실린더 보관).
CGA G-13실란 및 실란 혼합물의 보관과 취급.
ACGIH TLVs공기 중 화학물질의 허용 농도 기준(TLV), 가스 감지기 경보 설정값 결정에 널리 사용됩니다.
NFPA 72국가 화재 경보 및 신호 코드.
IEC 62443산업 자동화 및 제어 시스템 보안.
ANSI/ISA-18.2공정 산업의 경보 시스템 관리.

표준은 적용 범위와 함께 나열되며, 수치는 일반적인 값이지 모든 사이트의 요구사항이 아닙니다. FacilityOS는 귀사의 규정 준수 업무를 지원하지만 사이트를 인증하지는 않습니다.

플랫폼이 추적하는 KPI

플랫폼이 추적하는 KPI참고
UPW 비저항폴리시 루프 공급 비저항(MΩ·cm); 일반적 목표 18.2.
최악 구역 입자각 구역의 ISO 등급 대비, 전체 계수기 중 ≥ 0.5 µm 입자 최대 수.
CDA 노점CDA 헤더 압력 노점 (°F).
팹 MW 및 웨이퍼당 에너지유틸리티 수전 전력; MES 웨이퍼 투입 기준 웨이퍼 출하당 kWh.
가스 경보월간 GMS 경보 1/경보 2 이벤트 및 차단 횟수.

보고서

보고서참고
일간 클린룸 보고서수율 분석을 위한 구역별 입자, 압력, 온도/상대습도 극값과 이탈 시간.
UPW 품질 보고서비저항, TOC, DO, 입자 및 실리카 추이와 이탈 내역.
월간 가스 안전 보고서GMS 경보, 차단, 감지기 고장 및 교정 도래 항목.
배출 및 방류 규제 준수방류구 pH, 불소, COD와 스크러버 및 산화 설비 운전 기록.
구역별 에너지CUB, 서브팹, 클린룸별 에너지 및 수요.

수행 방식

반도체 및 IC 제조 프로젝트를 현장 조사와 설계부터 조달, 설치, 시운전, 교육까지 전 과정 또는 필요한 단계만 맡아 수행할 수 있습니다.

  1. 현장 조사 및 요구 사항 평가
  2. 솔루션 설계
  3. 조달
  4. 설치
  5. 시운전 및 인수
  6. 교육
  7. 가동 개시 및 지원

데모 사이트

Hillsboro Wafer Fab

24/7 300 mm 로직 팹: 1,000톤급 칠러, CDA 및 벌크 가스, 초순수, 가스 모니터링을 갖춘 특수 가스, ISO 5 클린룸, 폐수 및 배기 저감.

Hillsboro Wafer Fab 데모 사이트를 열어 이 산업을 시뮬레이션 실시간 데이터로 확인해 보세요. 공정 그래픽, 비디오 월, 경보 훈련, 원격 조정을 체험할 수 있습니다.

라이브 데모 체험

귀사의 장비로 직접 확인해 보세요

지금 라이브 데모를 열어 보시거나 사이트에 대해 알려 주시면 귀사의 장비와 시스템을 FacilityOS에 매핑해 드립니다.